オンライン乾式粒度分布測定機のレンズ汚染対策は？

レーザー回折・散乱法による粒度分布測定において、微粒子が懸濁液中で凝集すると測定結果の精度が低下することがあり、そのため試料の完全な分散が重要です。

液体の分散媒で溶解・凝集・化学反応する試料は、測定精度を保つために乾式法で分析されることが多いです。

オブスキュレーションとは、測定ゾーン内の粒子によって散乱・吸収される光の割合を指し、粒子濃度を示す重要な指標です。オブスキュレーションが高いほど、測定ゾーン内での光の遮蔽率が増し、粒子濃度が高いことを意味します。

バックグラウンド信号は、レーザー回折式粒度分布測定装置において、光学信号と電気信号の両方で構成されます。

屈折率は、光線が異なる媒質（例えば、水からガラス）を通過する際に曲げられる度合いを示す指標です。吸収係数は、光が媒質を通過する際にどれだけ吸収されるかを示します。

バックグラウンド信号が異常になる原因は様々です。その対策は、まずサンプルセルを検査し、次にレーザー光源とレンズを検査し、最後にアライメントシステムを検査することです。