분석 모드의 차이점

2023-07-14WIKI

일반 모드 (General Mode)
- 용도: 대부분의 입자 분석에 적합하며, 단일 분산 및 다중 분산 샘플을 포함합니다.
- 기본 설정: 분석 소프트웨어에서 보통 기본값으로 설정됩니다.
- 응용 분야: 고해상도의 분석이 필요하지 않은 일반적인 입자 크기 분석에 이상적입니다.
다피크 모드 (Multi-peak Mode)
- 용도: 높은 해상도의 분석이 필요할 때 사용됩니다.
- 민감도: 입자 크기 분포가 유사한 샘플에 더 민감합니다.
- 응용 분야: 입자 크기 분포가 서로 겹치는 샘플에서 여러 피크를 구분할 수 있도록 도와줍니다.
R-R 모드 (R-R Mode)
- 용도: 특정 분야에서만 사용되는 고정 분석 모드입니다. 예를 들어, 시멘트 제조에서 사용됩니다.
- 특수화: 특정 산업 분야나 특정 매개변수가 요구되는 경우에 사용됩니다.
- 응용 분야: 시멘트와 같은 특정 재료의 생산이나 품질 관리를 위한 분석에 주로 사용됩니다.

이 세 가지 분석 모드는 샘플의 특성, 해상도 요구 사항, 그리고 특정 산업 분야의 응용에 따라 선택됩니다.

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레이저 회절 입도 분석에서 미세한 입자가 현탁액 내에서 응집되면 부정확한 결과가 발생할 수 있습니다. 따라서 측정 전에 샘플을 완전히 분산시키는 것이 중요합니다.

습식 매체에서 용해되거나 응집되는 샘플 또는 매체와 반응하는 샘플은 일반적으로 건식 방법을 사용하여 분석할 수 있습니다.

입자 농도(Obscuration)는 측정 구역 내에서 입자에 의해 산란되고 흡수된 빛의 비율을 의미합니다.

배경 신호는 광학 신호와 전기 신호로 구성됩니다. 광학 잡음은 측정 중에 관계없는 물질에 의해 발생한 외부 신호입니다.

입도 분포를 계산하려면 매질과 샘플의 굴절률과 샘플 물질의 흡수 계수가 필요합니다.

비정상적인 배경 신호의 원인은 여러 가지가 있습니다. 예를 들어, 광학 시스템 정렬이 제대로 이루어지지 않았을 수 있고, 샘플 셀 내부나 렌즈 표면에 불순물이 부착되었을 수 있습니다.

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